快科技12月10日音讯，尼康宣告，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，出产功率、套刻精度都会有进一步提高。
据悉，尼康这款曝光机选用增强型iAS规划，可用于高精度丈量、圆翘曲和畸变校对，堆叠精度(MMO)更高，声称不超越2.1纳米。
比照当时类型，它的全体出产率可提高了10-15％，创下尼康光刻设备的新高，每小时可出产280片晶圆，停机时刻也更短。
快科技12月10日音讯，尼康宣告，将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”，出产功率、套刻精度都会有进一步提高。
据悉，尼康这款曝光机选用增强型iAS规划，可用于高精度丈量、圆翘曲和畸变校对，堆叠精度(MMO)更高，声称不超越2.1纳米。
比照当时类型，它的全体出产率可提高了10-15％，创下尼康光刻设备的新高，每小时可出产280片晶圆，停机时刻也更短。