平行曝光机是20世纪60年头扫描电子显微镜根底开展而来的一种新光刻技能，在70年代后大范围的应用于半导体电路板出产制作。曝光机即电子串曝光机，是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技能等于一体的杂乱的半导体加工设备。
在计算机的操控下，使用聚集电子束对有机聚合物（一般称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质产生显着的改变，在必定的溶剂中构成良溶或非良溶区域，然后在抗蚀剂上构成精密图形。依据电路板的线路的粗细来决议上下光源的曝光能量，能量缺乏电路板无法曝光，要是能量过高电路板就会过曝，所以在曝光电路板时，必须先测验电路板所需的能量，然后进行电路板的曝光出产。
8、超高能量，能有用替代8KW/10KW12KW传统汞灯阻焊曝光机，曝光时刻为20秒。